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关于首届(西湖)半导体集成电路技术论坛的通知

编辑:admin 时间:2017年09月30日 访问次数:1970

首届(西湖)半导体集成电路技术论坛(1st Semiconductor Integrated Circuits Technology Workshop at West Lake,简称SICTW)将于11 月6 日-11 月9 日在美丽的杭州西子湖畔浙江大学玉泉校区举行,本次研讨会将由浙江大学信息与电子工程学院、微电子学院和工程师学院联合举办。我们有幸邀请到了美国Intel公司、美国应用材料公司、美国IBM公司、韩国三星, 法国意法半导体公司、灿芯创智微电子公司、 华为等国际行业巨头的高级研发人员或资深研究员,以及美国斯坦福大学、卡耐基梅隆大学、德州大学奥斯汀分校、格拉斯哥大学等世界知名学府的高级科研人员主讲,参会的人员规模预计为250 人左右,其中100 人为国内高校和研究所的师生,另外的约150 位名额面向国内主要半导体制造, 产品和IP设计企业, EDA与设备制造和材料供应公司开放。因此本次论坛的出席者将覆盖国内主要的集成电路行业高端研发和研究群体,预计将产生一定的影响力,同时为国家培养集成电路高端人才起到一定的推动作用。此外,鉴于最近几年中国集成电路研发的重点是14nm和7nm技术的推进,本年度论坛的主题将覆盖14nm和7nm技术相关的主要问题,助力增强中国在高端集成电路制造工艺方面的国际领导力。具体的会议和报告信息请见附件。同时,您也可在论坛的网站(http://www.sictw.org) 浏览关于注册等更详细信息。

我们热诚期待贵单位的相关研究人员,教师与学生的积极参与。

谨祝 身体健康工作顺利!

SICTW 组委会

2017 年9 月29 日

2017 (西湖)14-7纳米半导体集成电路技术论坛.pdf